반도체 소재 관련주 1 (동진쎄미켐/이엔에프테크놀로지/에스앤에스텍)

 

이전엔 반도체 장비 관련주를 알아봤는데요.

이번엔 반도체 소재 관련주를 알아보겠습니다.

반도체 소제 관련주는

동진쎄미켐, 이엔에프테크놀로지, 에스앤에스텍, SK머티리얼즈, 솔브레인, 원익머티리얼즈 등이 있습니다.

그럼 각 관련주마다 사업부문과 매출처 및 매출 비중 등을 알아보도록 하겠습니다. 

 

 

 

동진쎄미켐

---

동진쎄미켐은 반도체 및 디스플레이용 포토레지스트(PR: PhotoResist, 감광액)와 신너, 스트리퍼, 에천트, Wet chemical 등 전자재료를 전문적으로 제조 및 판매하는 기업

 

 

 

- 사업부문

① KrF용 PR : 3D 낸드 공정에 많이 사용되는 KrF 용 PR 주력 공급 업체, 3D NAND 시장 점유율 1위를 차지

 

KrF용 PR의 성장을 예상하는 이유

1) 3D NAND 고단수화에 따른 PR 수요 증가

2) 2021년부터 고객사의 2 Stacking 기술 도입에 따른 Mask 공정 급증(=고객사의 3D NAND 제조 공정 step 증가)

3) 주력 고객사의 Xian 2 본격 가동에 따른 수요 증가

 

② ArF 용 PR : EUV 포토레지스트 바로 전 단계인 반도체용 불화아르곤(ArF) 액침 포토레지스트를 2010년에 국내 최초로 개발·생산

 

③ ArFi용 PR : 중장기적으로는 DRAM 내 ArFi 적용 비중 확대와 비메모리 라인으로까지의 확대가 이어질 것으로 예상

특히 ArFi PR의 경우, 일본 JSR, TOK, 신에츠화학이 과점하고 있는 시장으로, 아직까지 국산화 비중이 매우 낮음

ArF가 아닌 ArFi는 국내에서 동사가 유일하게 양산 적용했지만 아직까지 ArFi용 PR은 올해 1분기 기준 전체 매출액의 약 5% 이내 수준, 그러나 ArFi PR은 기존 KrF 대비 단가와 마진이 매우 높고, 이제 막 국 내 고객사내 점유율을 높여가고 있는 상황

 

④ EUV용 PR : 중장기적 관점으로 EUV용 PR 개발에 집중하고 있는 것으로 추정

최근 언론자료에 따르면 동진쎄미켐이 삼성 EUV 용 메모리 PR 3 순위 공급사 선정됐다고 함.

듀폰을 제외하고 전부 일본 기업들인 상황에서 아직 EUV 용 PR을 개발 못한 동사가 3 순위 공급사로 선정된 것은 고객사의 국산화 의지가 반영된 것으로 판단되며, 동진쎄미켐 입장에서는 장기 성장 동력을 확보한 것

 

동진쎄미켐의 주요 투자 포인트는 고객사 낸드라인의 주력 공급 제품인 KrF PR의 성장과 EUV PR 개발 및 진출 가능성

 

 

 

- 주요 매출처

제48기 3분기 현재 주요 매출처는 삼성전자(주), 엘지디스플레이(주), 삼성디스플레이(주) 등 

삼성전자 23.35%

엘지디스플레이 8.87%

삼성디스플레이 7.24%

 

매출 비중 반도체는 점점 증가 추세

 

 

 

 

- 기타 자료

 올해 초 정부 지원을 바탕으로 KrF와 ArF 등 PR 생산 공장을 증설하여 PR 국내 생산량을 2021년에는 현재 대비 2배 가까이 증가시킬 것으로 추정

또한 작년 말부터 국내 반도체 회사가 사용하던 ArF 노광 장비를 저렴한 가격에 구입하여 자체 연구소에 설치한 것으로 추정되며, 이를 통해 ArFi PR 약 15종 을 국내 고객사에 본격적으로 공급할 준비를 하고 있는 것으로 판단

 

 

 

이엔에프테크놀로지

---

국내 포토레지스트용 핵심원료(모노머류, 폴리머류, PAG 등)를 생산하는 기업

이엔에프테크놀로지는 반도체 및 디스플레이 소재인

프로세스케미컬 (식각액, 신너, 현상액, 박리액 등)

화인케미컬 (포토레지스트용 원료 등)

컬러페이스트 등을 공급

 

 

 

- 사업부문

① Etchant : 식각액은 반도체 / 디스플레이 제조공정 중 습식식각(Wet Etching) 공정에 사용되는 소재

② Stripper : 박리액은 반도체 / 디스플레이 제조공정 중 식각 공정의 마스크로 사용되는 포토레지스트를 용해해서 제거하는 용도로 주로 사용

③ Thinner : 신너는 반도체 / 디스플레이 제조공정 중 기판의 가장자리 부분이나 노즐의 불필요한 포토레지스트를 제거하여 정상적으로 공정이 진행되도록 해주는 기본 재료

④ Developer : 현상액은 반도체 / 디스플레이 제조공정 중 리소그래피 공정에서 자외선에 노출된 포토레지스트의
노광/비노광 영역을 선택적으로 용해함으로써 패턴을 형성하는 기능을 가진 제품

 

포토레지스트용 원료 :  반도체 회로의 선폭이 미세화됨에 따라 포토레지스트 사용량의 증가가 예상됨. 포토레지스트의 사용량 증가에 따라 핵심원료인 모노머, 광산발생제 등의 시장규모도 대폭 확대되고 있음

 

컬러페이스트 : 컬러레지스트의 주원료이자 TFT-LCD의 색 표현 품질을 결정하는 가장 중요한 소재

 

 

 

- 매출 비중 및 주요 매출처

주력 디스플레이 고객사 : LG 디스플레이, CSOT

주력 반도체 고객사 : 삼성전자, SK하이닉스

제품별 매출 비중 : 프로세스케미칼 85%, 컬러페이스트 10%, 화인케미칼 5%

 

 

 

- 기타 자료

 

이엔에프는 반도체용 불산 제조설비 신규투자를 공시(충남 천안의 제3공장)

이엔에프는 반도체 산화막용 식각액으로 사용되는 Buffered Oxide Etcher 분야에서 높은 점유율을 기록하고 있는데, 이번에 발표된 신규투자는 산화막용 식각액의 불산계 원재료를 국산화하는 것(원재료 내재화)

 

미국 법인 증설과 한국에서의 원재료 내재화는

(1) 반도체 고객사와의 관계 강화

(2) 메모리 반도체 중심의 제품 포트폴리오 탈피

(3) 불화수소 서플라이 체인 강화를 촉진

 

 

 

에스앤에스텍

---

반도체 및 평판디스플레이 제조공정에 사용되는 블랭크마스크 제조 및 판매를 주된 사업 활동으로 영위

ASML의 EUV 노광장비 출하 증가에 따른 EUV 소재/부품 관련주 성장 예상

비메모리 반도체를 생산하는 파운드리는 디램이나 낸드의 메모리 라인보다 동일 Capa 대비 포토마스크 사용량이 많으며, 그에 따라 블랭크마스크 사용량도 많이 필요. 따라서 고객사의 비메모리 라인 증설이 증설되면 블랭크마스크 공급 증가가 기대됨. 

 

 

 

- 사업부문

① 블랭크마스크 : 반도체 및 디스플레이 노광공정의 핵심 부품소재인 포토마스크의 원재료로 패턴이 형성되기 전의 마스크를 의미하며, 일본의 Hoya, Shin-etsu, Ulcoat 등이 90% 내외 점유하고 있는 국산화 필수 품목

 

 

② EUV용 펠리클 : 삼성전자의 지속적인 EUV 장비 도입과 선단공정 투자로 국내 EUV 용 펠리클 시장도 성장할 것으로 전망

에스앤에스텍은 현재 C-Si 타입의 1 세대 펠리클(투과율 87%)을 개발 완료했으며, 투과율 88% 이상, 투과 균일도(Trans. Uniformity)가 더 높고, 보다 High Power에 견딜 수 있는 2 세대 제품(Metal based Pellicle)을 개발 중으로, 빠르면 2021 년 하반기에 양산 매출이 기대되고 있다. 

 

 

 

- 주요 매출처

주 고객사 : 삼성전자, SK하이닉스, 삼성디스플레이, SMIC 등 

 

 

 

 

- 기타 자료

 

조달된 660 억 원 중 215 억 원을 시설투자 자금에 사용할 예정이며, EUV 펠리클 및 블랭크마스크 양산을 위한 신규 장비 투자를 2021년 6월 30일까지 할 계획으로 양산 준비가 단계적으로 진행 중인 상황이다.

 

 

 

 

 

 

출처

이베스트증권 동진쎄미켐 노광 공정 국산화의 최선단에 서다

SK증권 동진쎄미켐 3 분기 원화 강세에도 불구하고 호실적 기록 

하나금융투자 이엔애프테크놀로지 반도체용 불산계 원재료 국산화 추진

하이투자증권 이엔에프테크놀로지 숨 고르기

SK증권 삼성전자 파운드리 증설과 EUV 도입 확대 최대 수혜주

 

---

반도체 소재 관련주 2 (SK머티리얼즈/솔브레인/후성/원익머티리얼즈/한솔케미칼) (tistory.com)

반도체 소재 관련주 2 (SK머티리얼즈/솔브레인/후성/원익머티리얼즈/한솔케미칼)